氮化鈦的物理性質(zhì)：熔點(diǎn)2950.6～3205.8℃，線(xiàn)膨脹系數為5.712～7.053×106(1/K)(25℃)，密度為5.435～5.447g/cm3，熱導率為25.081(W·m-1·K-1)(300～2000℃)，莫氏硬度為8～9。一般情況下，氮化鈦粉末的顏色為黃褐色，顏色為黑色的是超細氮化鈦粉末，顏色為黃色的是氮化鈦晶體，大量聚集的氮化鈦晶體有金黃色金屬光澤。

氮化鈦的化學(xué)性質(zhì)：比較穩定，與水和酸（鹽酸和硫酸）等均不發(fā)生反應，表面鍍鈦廠(chǎng)家公司，但它能融入氫fu酸，若氫fu酸中含有氧化劑，則氮化鈦會(huì )完全溶解在氫fu酸中。氮化鈦溶解在強堿溶液中會(huì )分解并釋放出氨氣。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

有70多種元素、50多種無(wú)機化合物材料和多種合金材料可供選擇。濺射鍍sputteringdepsitsnn用荷能粒子(通常為氣體止離子)轟擊靶材，使靶材表面部分原子逸出的現象r.若把零件放在靶材附近酌適當位置上，則從靶材飛出的原子便會(huì )沉積到零件表面而形成鍍層。它特另}l適用于高熔點(diǎn)金屬、合金、半導體和各類(lèi)化合物的鍍覆二主要用于制備電子元件上所需的各種鍍層。也可用來(lái)鍍覆氮化欽仿金鍍層和在切削刀具上鍍覆氮化欽、碳化欽等硬質(zhì)鍍層，以提高其使用壽命和切削功能。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制

高反射膜從大口徑的天文望遠鏡和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要增透膜則大量用于照相和各種激光器開(kāi)始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜玻璃，都很需要。增透膜則大量用于照相機和電視攝象機的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤(pán)、半導體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件(CCD)也都甬道各種薄膜在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。 次數用完API KEY 超過(guò)次數限制